発表元:ノリタケ-底堅い 半導体向けダイヤモンド砥粒内包型研磨パッドを開発 / 経由媒体:Googleアラート: 産業廃棄物
編集方針
公表内容を短く読みやすく整理し、実務上の見方を加えています。数値、期限、対象条件はリンク先の一次情報をご確認ください。
IMAGE: ノリタケ-底堅い 半導体向けダイヤモンド砥粒内包型研磨パッドを開発ノリタケは2日、炭化ケイ素(SiC)ウエハーなどの製造における研磨工程で使用する、ダイヤモンド砥粒内包型研磨パッド「LumiDia(ルミディア)」を開発したと発表しました。この開発品は、ダイヤモンド砥粒を内包する独自構造によって高い研磨性能を実現しています。従来のダイヤモンドスラリーでは困難だったSiCウエハーの端面研磨が可能となったほか、水のみでの研磨に対応しているため、使用時に発生する産業廃棄物の低減に貢献するとしています。
発表元:ノリタケ-底堅い 半導体向けダイヤモンド砥粒内包型研磨パッドを開発 / 経由媒体:Googleアラート: 産業廃棄物
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